| Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок |
| 08.12.2010 | |
 Название: Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленокАвторы: Берлин Е. В., Двинин С. А., Сейдман Л. А. Издательство: Техносфера Год: 2007 Страниц: 176 Формат: DjVu Размер: 1.48 Mb ISBN: 978-5-94836-134-5 Качество: хорошее Серия или Выпуск: Мир материалов и технологий Язык: русский В книге обобщено современное состояние одной из отраслей производства изделий электронной техники: вакуумной технологии нанесения и травления тонких пленок. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок, плазмохимических установок для травления тонких пленок и технологических особенностей их использования. Описаны математические модели, способы управления и примеры использования реактивного магнетронного напыления, принципы построения и применения среднечастотных источников питания для реактивного магнетронного напыления. Приведены теоретические основы и физические принципы конструирования нового типа источника высокочастотного разряда низкого давления для ионного или плазмохимического травления тонких пленок и/или их стимулированного плазмой осаждения. Книга рассчитана на специалистов научно-исследовательских лабораторий, конструкторских бюро и производственных подразделений предприятий, занимающихся разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и оборудования для их производства. Оглавление: Часть 1. Напыление тонких пленок Глава 1. Технологические особенности нанесения резистивных слоев Глава 2. Технологические особенности нанесения металлизации ГИС Глава 3. Устройство магнетронного источника распыления Глава 4. Способы получения равномерного нанесения пленки из протяженного магнетронного источника Глава 5. Процесс реактивного магнетронного распыления со среднечастотным источником питания магнетрона Глава 6. Магнетронные напылительные установки предприятия . ООО «Эсто-Вакуум» Глава 7. Технологические особенности нанесения различных слоев на магнетронной установке Глава 8. Предотвращение появления следов электрических разрядов на металлической пленке, нанесенной с помощью магнетрона Глава 9. Способы управления процессом реактивного магнетронного распыления с помощью вольтамперных характеристик разряда Глава 10. Моделирование процесса реактивного нанесения Глава 11. Получение чередующихся слоев различных диэлектриков на основе кремния в одном процессе на магнетронной установке Часть 2. Плазмохимические процессы Глава 12. Физические процессы и модели высокочастотного разряда низкого давления Глава 13. Различные способы возбуждения ВЧ поля в плазме Глава 14. Импеданс емкостного ВЧ-разряда низкого давления Глава 15. Свойства слоя пространственного заряда Глава 16. Возбуждение ВЧ поля в TCP-разряде Глава 17. Распределение плотности электронов в плазме Глава 18. Ранее выпускавшаяся установка для реактивного ионно-плазменного травления «Каролина РЕ-4» (ЭРА-ЗМ, ЭРА-4) Глава 19. Шлюзовая установка плазмохимического травления «Каролина РЕ-11» Глава 20. Шлюзовая установка плазмохимического травления «Каролина 15» Глава 21. Плазменно-стимулированное осаждение слоев из газовой фазы (PCVD) с применением генератора высокоплотной плазмы типа трансформаторно-связанной плазмы (TCP) Скачать Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок, с: Letitbit.net Turbobit.net DepositFiles.com |
